近幾年，我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛，在各個(gè)領(lǐng)域取得了技術(shù)突破。比如龍芯中科已經(jīng)研發(fā)出龍芯3A6000芯片，這款芯片的整體性能接近英特爾的第10代酷睿芯片。比如哈工大團(tuán)隊(duì)研發(fā)的超高速精密激光干涉儀，這款設(shè)備能為28nm光刻機(jī)的研制提供技術(shù)支撐……

而在這些技術(shù)突破中，華為當(dāng)屬首屈一指的存在。從5nm的麒麟9000量產(chǎn)上市，到14nm的EDA工具研發(fā)成功，華為引領(lǐng)了我國(guó)半導(dǎo)體技術(shù)的突破。

很遺憾，由于華為等眾多民族企業(yè)在半導(dǎo)體技術(shù)的突破，老美害怕這些企業(yè)威脅到它的統(tǒng)治地位。為此，老美聯(lián)合一眾小弟打壓華為等一眾國(guó)內(nèi)企業(yè)。

(資料圖片)

經(jīng)過(guò)老美的六輪打壓，華為自研的麒麟芯片無(wú)人代工、先進(jìn)的EDA工具也無(wú)法使用，采購(gòu)的手機(jī)芯片也不支持5G網(wǎng)絡(luò)……。

值得慶幸的是華為技術(shù)積累深厚、資金流充裕、業(yè)務(wù)范圍廣泛、消費(fèi)群體龐大，因此華為在老美的打壓下并沒(méi)有倒下。相反華為2022年的營(yíng)收超過(guò)6300多億元，仍然是我國(guó)民營(yíng)企業(yè)的NO1。

當(dāng)然了，華為只是老美打壓企業(yè)中的一個(gè)，華為綜合實(shí)力強(qiáng)勁，自然可以抵御老美的打壓，但其他企業(yè)面臨老美的打壓就顯得后繼乏力了。

據(jù)悉，在老美打壓的眾多企業(yè)中，中芯國(guó)際應(yīng)該是受牽連最嚴(yán)重的企業(yè)之一。早在2018年，中芯國(guó)際從荷蘭ASML采購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)。由于老美老美從中作梗，ASML限制了這種頂尖的EUV光刻機(jī)無(wú)法發(fā)貨。彼時(shí)，ASML的中高端DUV光刻機(jī)還可以正常發(fā)貨。

而在2023年2月份，老美拉著日本、荷蘭組成“封鎖聯(lián)盟”，以此限制中企獲得中高端DUV光刻機(jī)。

為什么老美要拉著日本和荷蘭這兩個(gè)國(guó)家呢？據(jù)悉，荷蘭ASML是全球唯一一家能夠生產(chǎn)EVU光刻機(jī)的廠商，也是少數(shù)能夠生產(chǎn)先進(jìn)DUV光刻機(jī)的廠商。而日本的尼康和佳能在14nm—45nm的DUV光刻機(jī)市場(chǎng)也是執(zhí)牛耳的存在。

也就說(shuō)我國(guó)企業(yè)想要獲得先進(jìn)的DUV設(shè)備，那么尼康、佳能、ASML這三家企業(yè)是無(wú)法繞開的。

而在前不久，日本正式發(fā)布了23項(xiàng)半導(dǎo)體設(shè)備出口管制，這份出口限制也包括了14nm工藝的光刻機(jī)。這份出口管制將在7月23日，也就說(shuō)這個(gè)月的23號(hào)正式施行。屆時(shí)，其他企業(yè)從尼康、佳能獲得中高端光刻機(jī)設(shè)備的難度就大幅度增加。

雖然日本相關(guān)部門對(duì)外表態(tài):出口管制不針對(duì)第三方，所有企業(yè)只要獲得許可就能獲得中高端光刻機(jī)。但以日本之前的所作所為，我國(guó)企業(yè)大概率不會(huì)獲得14nm的中高端光刻機(jī)的出口許可。

而在6月底，荷蘭相關(guān)部門也正式發(fā)布了半導(dǎo)體設(shè)備出口禁令。在該禁令下，荷蘭光刻機(jī)廠商將對(duì)14nm——45nm的中高端DUV設(shè)備施行出口管制。和日本的出口管制一樣，荷蘭的出口管制也不針對(duì)第三方，但相關(guān)企業(yè)想要獲得14nm——45nm的DUV光刻機(jī)仍需要獲得荷蘭相關(guān)部門的許可。

該項(xiàng)出口管制將在9月1號(hào)正式施行，ASML也明確表示將會(huì)在這個(gè)日期實(shí)施14nm——45nm的DUV設(shè)備出口管制。

由于ASML有限制EUV光刻機(jī)出口的“前科”，因此這次中企想要獲得14nm——45nm的DUV光刻機(jī)可謂極為艱難。為此，有外媒表示:沒(méi)有ASML的先進(jìn)光刻機(jī)，中企的芯片外援全斷了。

寫在最后

古語(yǔ)有云:靠人不如靠己。通過(guò)這次日本、荷蘭的光刻機(jī)出口管制禁令可知，把獲得光刻機(jī)的希望放在西方國(guó)家其不可取的。唯有腳踏實(shí)地的研發(fā)，廣聚賢才的管理模式、舍得花錢的決心、低調(diào)務(wù)實(shí)的工作作風(fēng)，我們才能實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)的自主研發(fā)生產(chǎn)。

可喜的是上海微電子自研的28nm光刻機(jī)已經(jīng)進(jìn)入驗(yàn)證階段，如果進(jìn)展順利的話，這款28nm光刻機(jī)將在這幾年發(fā)布。屆時(shí)，我國(guó)將會(huì)實(shí)現(xiàn)28nm光刻機(jī)的突破，實(shí)現(xiàn)28nm芯片的自主化。

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